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镀铜扁钢作为设备接地引下线、地网水平接地导体、电缆沟及杆塔水平接地导体一般有铜、镀铜扁钢、镀锌扁钢三种。铜的效果和耐腐蚀性 ,,是适合做设备接地引下线、地网水平接地导体、电缆沟及杆塔水平接地导体。但是铜的价格很高,而且会被小偷偷。镀锌扁钢是现在用的多的水平接地导体,但是它的效果和耐腐蚀性都不怎么理想。

镀铜钢是一种新型双金属复合材料,它既有钢的高强度,优异的弹性,较大的热阻和高导磁性,又有铜较好的导电性能和优良的抗腐蚀性能,市面上的镀铜钢产品,一般有三种工艺,一种是电镀,一种是包铜,还有一种是水平连铸,水平连铸成本非常高,一般用于接地的镀铜钢产品都不采用这种工艺。

电镀工艺: 将高纯度电解铜通过电解原理,使其完全附着在钢芯上,在铜钢结合面形成合金化分子级结构,双金属界面完全结合,从而实现铜与钢之间可延性冶金连接,并形成整体.

 



阴极表面溶液浓度渐稀的异常液膜称为阴极膜(Cathode Pilm)或扩散层(Diffusion Layer),系指原始铜浓度Cu++重量比下降l%起(99%)到阴极的0%为止的薄液层而言。原本水分子与铜离子所组成的阴极膜,其各处膜厚并不均匀,加入载运剂后此薄膜即将变为厚度增加且均匀性更好的液膜,使得镀铜层厚度也渐趋均匀。本剂可采CVS或HPLC进行分析。
电双层(Double Layer)是指电镀槽液中在接近阴极表面处,因槽液中的带电体受到阴极表面强力负电的感应,而出现一层带正电的观离子层,其与带负电之极板表面所形成的薄夹层,特称为”电双层”。此层厚度约为10A。是金属阳离子在阴极上沉积镀出金属原子的后一道关卡。此时带电之金属离子团,会将游动中附挂各种”配位体”(Ligand,如水分子及CN-与NH3。或有机物等)丢掉,然后吸取极面的电子而成为原子再按能量原子排列后,即可得到所需之金属镀层。




化学镀铜技术起始于1947年,Narcus首先报道了化学镀铜溶液化学。初始阶段化学镀铜液的稳定性很差,溶液易自动分解,且施镀范围不能控制,所有与溶液接触的地方都有沉积物。而真正意义上的商品化学镀铜出现于20世纪50年代,随着印制线路板(PCB)通孔金属化的发展,化学镀铜得到了早的应用。 个类似现代的化学镀铜溶液由Cahill公开发表于1957年,镀液为碱性酒石酸铜镀浴,甲醛为还原剂。现在,经过50多年的开发研究,形成了相对完善的化学镀的溶液化学知识以及工艺技术基础,并建立了初步的基础理论体系。

化学镀铜是在有钯等催化活性物质的表面,通过甲醛等还原剂的作用,使铜离子还原析出。化学镀铜相对于电镀铜的优势主要有:①基体范围广泛;②镀层厚度均匀:③工艺设备简单:④镀层性能良好。



镀铜扁钢是由世界 的电镀技术在低碳钢上电镀纯度为99.9%以上的电解铜而成,镀铜层各点厚度为0.254mm以上,具体应用:用于设备接地引下线、地网水平接地导体、电缆沟及杆塔水平接地导体,布线整齐方便。

镀铜扁钢是由世界 的电镀技术在低碳钢上电镀纯度为99.9%以上的点解铜而成,镀铜层各点厚度为0.254mm以上,具体应用:用于设备接地引下线、地网水平接地导体、电缆沟及杆塔水平接地导体,布线整齐方便。镀铜扁钢跟其他的水平接地导体相比,有着巨大的优势:价格便宜。虽然镀铜扁钢的单价要比镀锌钢的单价高,但是它的电流传导能力和使用年限要比镀锌钢强。因为镀铜扁钢的电流传导能力要比镀锌钢高,在同一个接地项目中要达到同样的的能力和接地电阻,镀铜扁钢的使用量要比镀锌钢少。综合比较在同一个接地项目镀铜扁钢造价与钢材接地系统造价相当。再从长期比较,使用镀铜扁钢接地系统的年限长达40年,而使用镀锌钢的接地系统长使用年限只有15年。使用镀锌钢的接地系统每隔几年就要开挖维护和改造。接地系统改造比新建一个接地更费钱和耗时。长此以往镀铜扁钢的造价要比镀锌钢的单造价要低。防腐性能优异,使用年限长达40年。

 




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